低溫恒溫槽常見問題解答
低溫恒溫槽應用范圍：
對半導體制造裝置發熱部的冷卻：單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。
對激光裝置發熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發熱部分、激光標志裝置、發生裝置、二氧化碳激光加工機等。
低溫恒溫槽常見問題：
1、水循環使用了一年多都很正常，可現在制冷速度好像越來越慢了，在氣溫越高時越明顯？
答：水循環使用很簡單，但是定期的維護保養工作還是不能忽視的。有很多看似故障的毛病其實就是沒有定期做維護保養引起的。水循環自身的電功率和制冷劑從負載中帶走的熱量都需要從前通風罩處的散熱器中排走，如果前通風罩上吸滿灰塵和柳棉等就會妨礙這些熱量的散發，制冷效果將大打折扣。一般來說在正常的使用條件下制冷量下降都是因為通風散熱效果太差或環境溫度太高引起的。
2、水循環以前使用都很正常，可現在發現噪音比以前大很多，這是什么原因？
答
下一篇：2012第十屆廣州國際酒店設備及用品展覽會 上一篇： 出口茶葉應注意農藥殘留超標問題
此文關鍵字：低溫恒溫槽
