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[常見問題]低溫恒溫槽常見問題解答 [ 2012-02-15 16:10 ]
低溫恒溫槽應用范圍:      對半導體制造裝置發熱部的冷卻:單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。      對激光裝置發熱部分的冷卻:激光加工、熔接機的發熱部分、激光標志裝置、發生裝置、二氧化碳激光加工機等。    低溫恒溫槽常見問題:      1、水循環使用了一年多都很正常,可現在制冷速度好像越來越慢了,在氣溫越高時越明顯?      答:水循環使用很簡單,但是定期的維護
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[技術中心]低溫恒溫槽的功能選擇 [ 2012-02-15 16:04 ]
低溫恒溫槽廣泛用于石油、化工、電子儀表、物理、化學、生物工程、醫藥衛生、生命科學、輕工食品、物性測試及化學分析等研究部門,高等院校,企業質檢及生產部門,為用戶工作時提供一個熱冷受控,溫度均勻恒定的場源,對試驗樣品或生產的產品進行恒定溫度試驗或測試,也可作為直接加熱或制冷和輔助加熱或制冷的熱源或冷源。 控制面板:數字顯示,設置簡單、操作方便,溫度可以校準,報警有信號顯示。 采用PID溫度控制,具有設定、測定溫度雙數字顯示及PID自整功能,控溫精確可靠;傳感器:PT-100鉑金熱電阻傳感器。  &nbs
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[常見問題]低溫恒溫槽日常注意事項及維護總結 [ 2011-10-08 17:49 ]
低溫恒溫槽具體注意事項:      1、低溫恒溫槽內液體介質的選用應符合以下原則:      當工作溫度在5~85℃時,液體介質一般選用水;      當工作溫度在85~95℃時,液體介質可選用15%甘油水溶液;      當工作溫度高于95℃時,液體介質一般選用油,并且所選擇的油品的開杯閃點值應高于工作溫度50℃以上;
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